4腔单晶圆水平电镀工艺设备

  技术特点 Features  

· 片内均匀性：＜4%，，，，片间均匀性：＜3%，，，重复性：＜3%，，，COP：＜10µm
。
。

· 90%部件本土化，，
，，本地软件团队
，，，
，有独立的设计和专利
。
。。。