4腔单晶圆水平电镀工艺设备
4腔单晶圆水平电镀工艺设备
技术特点 Features
· 片内均匀性：＜4%，，片间均匀性：＜3%，，，，重复性：＜3%，，，，COP：＜10µm。。
· 90%部件本土化，，本地软件团队，，，有独立的设计和专利。。。。
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